1429088737_intel-logoФирма Intel заменяет намеченные раньше намерения сообразно закупке производственного оснащения для выпуска 10-нм решений.

На осенней сессии IDF 2014 фирма Intel показала кремниевую пластинку со текстурами SRAM, сделанными сообразно 10-нм научно-техническому процессу.

Интернет-сайт Semiconductor Engineering докладывает, будто для изготовления 10-нм чипов фирма Intel сотворила маленькую искусную линию на заводе D1X в Хиллсборо. Доп оснащение для расширения мощностей фирма подразумевала скупить еще в прошедшем луне, однако ныне закупки приостановлены по декабря текущего года.

В фирмы доказали, будто исследование, введение и переход на 10-нм общепризнанных мерок изготовления идёт сообразно намерению. Сроки введения фирма никак не уточняла, однако, делая упор на эту теорию Intel, как «тик-этак«, коия предполагает двухгодичный цикл замены техпроцесса, правило изготовления 10-нм процессоров Intel Cannonlake надлежит ждать в конце 2016 года. Некое время обратно Вотан из региональных управляющих фирмы в принципе доказал схожее формирование событий, объявив о намерениях выпуска 10-нм решений в главном микрорайоне 2017 года.

Как вы сможете держать в голове, Intel приблизительно на год задержала общественный выпуск 14-нм процессоров. 1-ый шаг изготовления данных решений был сопровождаемым очень высочайшим уровнем брака. Никак не исключено, будто в случае 10-нм техпроцесса еще станет отслеживаться что-то схожее, а означает опять имеет возможность случится перенесение сроков.